プログラム

プログラムの掲載と配布について

プログラム詳細(HTML版)については下記リンクからご覧ください。
部会ニュースレター誌3号にプログラムを掲載しますので、部会員の皆様は討論会当日にご持参下さい。また部会員以外の参加者には当日会場にて配布いたします。

日本語版 HTML English Version HTML


※要旨集はホームページから電子ファイルをダウンロードしていただく予定です。準備が整い次第ご案内いたしますのでしばらくお待ちください。


日程概要
日程 午前 昼食 午後 夕方
 9月17日(月)
会期前日
     13:00-
第6回 「未来のコロイドおよび界面化学を創る若手討論会」
(つくば国際会議場)
 
 会場設営
(筑波大学筑波キャンパス中地区第3エリア)
 展示設営
(筑波大学筑波キャンパス中地区第3エリア)
 9月18日(火)  9:20-12:00
一般研究発表
一般シンポジウムS1,S2,S6
(筑波大学筑波キャンパス中地区第3エリア)
 12:10-13:00
ランチョンセッション
(筑波大学筑波キャンパス中地区第3エリア)
 13:00-17:20
一般研究発表
一般シンポジウムS1,S2,S3,S5
(筑波大学筑波キャンパス中地区第3エリア)
 17:30-20:30
キャリ探セッション2018
〜聞いてみよう!仕事のリアル、⾒つけよう!未来のジブン〜

(筑波大学第3エリア総合研究棟B 110・112講義室)
 9月19日(水)  8:50-12:10
一般研究発表
一般シンポジウムS4
(筑波大学筑波キャンパス中地区第3エリア)
 12:10-13:00
ランチョンセッション
(筑波大学筑波キャンパス中地区第3エリア)
 12:20-13:30
ポスター審査
(ポスター会場)
13:15-17:20
部会長挨拶
総合講演
Lectureship Award受賞講演

(筑波大学大学会館講堂)
 18:30-
懇親会(Banquet)
(オークラフロンティアホテルつくば)
 9月20日(木)  8:50-12:10
一般研究発表
一般シンポジウムS3,S7
(筑波大学筑波キャンパス中地区第3エリア)
   13:00-14:40
一般研究発表
一般シンポジウムS3
(筑波大学筑波キャンパス中地区第3エリア)
 
 15:00-17:00
ポスターセッション
(筑波大学筑波キャンパス中地区第3エリア)

部会報告、総合講演・Lectureship Award 講演・奨励賞受賞講演のご案内
部会報告 9月19日(水)筑波大学大学会館講堂
13:15-13:25 部会長挨拶・部会現況報告
13:25-13:35 Lectureship Award授与式
Lectureship Award受賞講演 9月19日(水)筑波大学大学会館講堂
13:50-14:40 Revisiting the concept of ion adsorption at porous carbon surface; application to supercapacitor electrodes (Universite Paul Sabatier) ○Patrice Simon
14:40-15:30 Effects of Nanoscale Chemical Patterns on Hydrophobic Interactions (University of Wisconsin-Madison) ○Nicholas L. Abbott
総合講演 9月19日(水)筑波大学大学会館講堂
15:40-16:30 細菌が放つ多様な細胞外粒子 The various types of bacterial membrane vesicles (筑波大学) ○野村 暢彦
16:30-17:20 When droplets of colloidal solutions dry on a substrate (北京航空航天大学) ○土井 正男
科学奨励賞受賞講演 9月18日(火)C会場
10:20-10:50 有機-無機ナノ細孔性材料の開発と吸着に関する研究 Development of adsorption functionalities on organic-inorganic nanoporous materials (東京農工大学) ○近藤 篤
科学奨励賞受賞講演 9月18日(火)A会場
13:10-13:40 ソフト微粒子の次元構造とマイクロ空間場における機能制御 soft hydrogel microspheres for highly-ordered structured materials (信州大学) ○鈴木 大介
技術奨励賞受賞講演 9月20日(木)A会場
11:20-11:50 弱酸性塩型界面活性剤を用いた皮膚へのマイルド性と高洗浄性の両立実現 Simultaneous pursuit of mildness to skin and high detergency using weak-acid salt type surfactant (花王株式会社) ○加賀谷 真理子