公益社団法人日本化学会 : コロイドおよび界面化学部会

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C & I Commun Vol. 49, No. 3 (J-Stage掲載)

コロイドおよび界面化学部会員の皆様

C & I Communication誌Vol.49, No.3がJ-STAGEに掲載されましたので、お知らせいたします。また、学生部会員の皆様には印刷体をお送りしておりませんので、J-STAGEに掲載したC&Iをご覧になっていただきたいと思います。C&I Communication誌Vol. 49, No. 3の目次を以下に示しますので、併せてご利用ください。C & I Commun はオープンアクセス誌です。無料で閲覧でき、ダウンロードもしていただけます。


コロイドおよび界面化学部会 編集委員会・広報委員会
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C & I Communication – News Letter from DCSC – Vol. 49, No. 3
URL: https://www.jstage.jst.go.jp/browse/cicommun/list/-char/ja

巻頭言
再びオンサイト開催へ:第75回コロイドおよび界面化学討論会
第75回討論会実行委員長 蟹江 澄志(東北大学 国際放射光イノベーション・スマート研究センター)
討論会委員長 飯山 拓(信州大学 理学部)
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_1

特集記事
第75回コロイドおよび界面化学討論会の一般シンポジウムへのお誘い
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_3

Interface【若手注目研究】
界面活性剤の水和により誘起する動的濡れを利用したメイク自発洗浄メカニズム
花王株式会社 長崎 裕子
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_12

酸化グラフェンによるゼオライトの安定包接
信州大学 大塚 隼人
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_16

高分子溶液中における電場駆動ヤヌス粒子の自走運動
九州大学大学院 理学府 齊藤 圭太
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_19

炭酸水を用いて調製したアルギン酸ハイドロゲルの物性評価と低環境負荷な創傷被覆材への展開
東京理科大学大学院 理学研究科化学専攻 手島 涼太
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_23

Colloidal Synthesis of Less-toxic Agbased Multinary Quantum Dots and Their Emission Control for Bio-medical Imaging
Department of Materials Chemistry, Graduate School of Engineering, Nagoya University, Nurmanita Rismaningsih
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_26

Topics
可溶性炭素材料を用いた無機粒子への均一な液相ナノカーボンコーティング
株式会社日本触媒 研究センター 郷田 隼
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_30

研究室紹介
東京理科大学 理学部第一部化学科 菱田研究室
菱田 真史
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_34

リレートーク~コロイド・界面との懸け橋
海外ポスドクよもやま話
甲南大学 理工学部機能分子化学科 村上 良
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_36

部会から
コロイドおよび界面化学部会2023年度事業報告・2024年度事業計画
2023年度部会収支報告
2024年度部会予算
Lectureship Award令和7年度受賞候補者の公募について
令和7年度 科学奨励賞および技術奨励賞の候補者募集
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_38

会告
第8回「未来のコロイドおよび界面化学を創る若手討論会」
キャリ探セッション
第75回コロイドおよび界面化学討論会 国際シンポジウム
第27回コロイド・界面技術者フォーラム ~コロイド領域の基礎および製剤技術~
第11回分散凝集科学技術講座「分散・凝集のすべて」
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_45

第75 回コロイドおよび界面化学討論会
URL: https://doi.org/10.57534/cicommun.49.3_57

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