第27回コロイド・界面技術者フォーラム ~コロイド領域の基礎および製剤技術~ 2024.06.26
コロイド・界面技術者フォーラムでは、第一線でご活躍されている先生をお招きし、じっくり話を伺う機会を提供しています。本年は、コロイド・界面化学分野の最新の製剤化技術と基礎理論に触れることで、コロイド・界面現象を深く理解する場をオンライン開催にて提供します。企業に所属する研究員が密に語り合い刺激し合える場を設けることで、視野の拡大・研究意欲の鼓舞・研究者ネットワーク形成等に貢献します。
会 期 令和6年11月22日(金) オンライン開催
会 告:会告PDFファイル
SESSION 1 講演
13:00-15:10 企業講師4名、アカデミア講師1名によるコロイド・界面現象に関する製剤化技術と基礎理論の紹介
13:05-13:30 肌をこすらずメイクを落とす自発洗浄技術の開発と応用
花王株式会社 スキンケア研究所 長崎 裕子 氏
13:30-13:55 ナノ化したワセリンの皮膚浸透性及び保水効果の検証
富士フイルム株式会社 バイオサイエンス&エンジニアリング研究所 宇田 謙 氏
13:55-14:20 スキンケア乳化技術を応用したスキンケアファンデーションの開発検討
株式会社資生堂 ブランド価値開発研究所 髙田 耕太郎 氏
14:20-14:45 レシチン逆紐状ミセルのレオロジー特性と
組成が水溶性薬物の皮膚浸透に与える影響
ポーラ化成工業(株)フロンティア研究所 宮坂 美行 氏
14:45-15:10 こめパラフィンでゲル化したオイルゲルの摩擦と触感
山形大学学術研究院 野々村 美宗 教授
SESSION 2 ディスカッションタイム
15:25-16:55 ブレイクアウトルームに分かれた講師とのディスカッションタイム
*すべての講師とのディスカッションタイムがあります。
*ディスカッション時間15分×5
お申し込み・参加費
■お申込み方法
コロイドおよび界面化学部会Webサイト(https://app.payvent.net/embedded_forms/show/66d993b16450df2670e09d0e)にアクセスし、お申し込みください。
*令和6年9月上旬受付開始、申込締切日:令和6年11月上旬or定員に達し次第(定員:40 名)
■参加費(税込)
部会員 6,000円 日化・協賛学会員 9,000円 非会員 11,000円 学生 3,000円
*ご勤務先が法人部会員の場合は部会員、日本化学会法人会員の場合は日本化学会会員、協賛学会法人会員の場合は協賛学会員扱いとなります。
*協賛学会は、コロイドおよび界面化学部会 Web サイト(http://colloid.csj.jp)よりご確認下さい。
お問い合わせ
日本化学会 コロイドおよび界面化学部会 企業委員会
E-mail: tech@colloid.csj.jp 電話: (03)3292-6163